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琢銳匠儀科學儀器(上海)有限公司

  • 1600℃真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

    【產品特點】產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體、納米技術、等纖維等領域 此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 氣體流量控制系統(ZLXT、ZKXT、FZXT)

    【產品特點】產品特點 設備為用戶提供具有可控氣氛的實驗環境 配合真空氣氛管式爐一起使用,供企業實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。 產品用途 該系列產品配合真...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1600℃真空氣氛管式爐(TF)系列

    【產品特點】產品特點: 氣路連接方式采用快速連接法蘭結構,裝卸快捷方便,只需一個卡箍即可完成 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上 自主研發...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1400°真空氣氛管式爐(TF)系列

    【產品特點】1400℃真空/氣氛管式爐(TF)系列 產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體、納米技術、碳纖維等領域 使用溫度范圍 300...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1400℃真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

    【產品特點】產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境 此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1200℃開啟式真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

    【產品特點】產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體、納米技術、 碳纖維等領域 使用溫度范圍 300~1200℃ 溫度控制精度 1℃ 管徑...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1200℃開啟式真空氣氛管式爐(TF)系列低配版

    【產品特點】產品特點 氣路連接方式采用快速連接法蘭結構,裝卸快捷方便,只需一個卡箍即可完成 爐膛分為上下兩部分,上部分爐膛可后翻100,方便取放及觀察物料 爐膛...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比
  • 1200°開啟式真空氣氛管式爐(TF)系列

    【產品特點】提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境 應用在半導體、納米技術、碳纖維等領域,使用溫度范圍 300~1200℃,溫度控制精度 1℃, 管徑50608...
    型號: 所在地: 參考價: 面議 更新時間:2022/7/14 16:50:22 對比

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